火车上，唐溪也没闲着，仍旧拿着笔仔细修改着设计图。

光刻机设计图唐溪只画了前面一部分，而且需要反复修改的地方都挺多，后续设计图唐溪还没画。

光刻机的设计图比之前的机床设计图要复杂多了，而且所接触的技术也都不一样，这难度自然就增加了。

结构方面光刻机就很复杂，其中包括照明系统，镜头组，性能指标，基片尺寸范围，分辨率，对准精度，曝光方式，光源波长，光强均匀性，还有最重要的生产效率。

内部封闭框架，也分为很多，能量探测，掩模板、掩模台，物镜，曝光台，减震装置，然后是硅片，测量台，分散到测量设备。还有遮光器，光束形状设置，能量的控制，光束的矫正，以及激光器。